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              伯東貿易(深圳)有限公司

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              KRi 離子源應用于藍玻璃 AR工藝

              2023
              07-03

              10:26:31

              分享:
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              來源:伯東貿易(深圳)有限公司

              KRi 離子源應用于藍玻璃 AR 工藝
              配備 800萬或以上像素的手機都基本內嵌藍玻璃濾光片的攝像頭. 藍玻璃濾光片通過 AR Coating 的鍍膜, 可以增加透光率和反射紅外光. 光線在透過不同介質時會產生折射和反射, 當加上單面 AR Coating 后, 濾光片會提升3~5%的透光率, 讓圖像更清晰且讓濾光片不容易起霧. 上海伯東協助某從事光學玻璃鍍膜機生產的客戶, 在光學鏡頭材料藍玻璃 AR工藝方面實現技術突破!

              經過推薦客戶采用光學鍍膜機加裝美國進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 在離子清洗, 輔助沉積時, 提高藍玻璃的薄膜 / 基層物的附著性和硬度, 減少吸收殘余氣體的污染物和薄膜應力. 上海伯東美國 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 利用高均勻性的離子分布及高穩定的離子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸鍍設備, 解決了在藍玻璃上無法達到高質量鍍膜要求的問題, 同時也提升了企業生產效能.

              應用方向: 離子清洗, 輔助沉積
              應用領域: 光學鏡頭
              薄膜工藝: 藍玻璃鍍 AR增透膜
              產品類別: 濾光片
              鍍膜設備: 1米7 的大型蒸鍍設備, 配置美國 KRi 射頻離子源 RFICP 380
              測試環境: 80C / 80% 濕度, 85C / 95% 濕度, 連續 1,500 小時高溫高濕嚴苛環境測試
              射頻離子源樹脂鏡片高性能 AR 工藝

              射頻離子源樹脂鏡片高性能 AR 工藝

              上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長!  射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.

              KRi 射頻離子源


              美國 KRi RFICP 射頻離子源技術參數:

              型號

              RFICP 40

              RFICP 100

              RFICP 140

              RFICP 220

              RFICP 380

              Discharge 陽極

              RF 射頻

              RF 射頻

              RF 射頻

              RF 射頻

              RF 射頻

              離子束流

              >100 mA

              >350 mA

              >600 mA

              >800 mA

              >1500 mA

              離子動能

              100-1200 V

              100-1200 V

              100-1200 V

              100-1200 V

              100-1200 V

              柵極直徑

              4 cm Φ

              10 cm Φ

              14 cm Φ

              20 cm Φ

              30 cm Φ

              離子束

              聚焦, 平行, 散射

               

              流量

              3-10 sccm

              5-30 sccm

              5-30 sccm

              10-40 sccm

              15-50 sccm

              通氣

              Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

              典型壓力

              < 0.5m Torr

              < 0.5m Torr

              < 0.5m Torr

              < 0.5m Torr

              < 0.5m Torr

              長度

              12.7 cm

              23.5 cm

              24.6 cm

              30 cm

              39 cm

              直徑

              13.5 cm

              19.1 cm

              24.6 cm

              41 cm

              59 cm

              中和器

              LFN 2000


              上海伯東同時提供真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.

              1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域.

              若您需要進一步的了解 KRi 射頻離子源, 請參考以下聯絡方式
              上海伯東: 羅先生

               

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